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/ NetNews Usenet Archive 1992 #31 / NN_1992_31.iso / spool / sci / material / 1051 < prev    next >
Encoding:
Internet Message Format  |  1992-12-27  |  1.4 KB
  1. Path: sparky!uunet!spool.mu.edu!umn.edu!msus1.msus.edu!vax1.mankato.msus.edu!vxc15931
  2. Newsgroups: sci.materials
  3. Subject: Technical references for wafer-cleaning using ultrasonics
  4. Message-ID: <1992Dec27.165117.2629@vax1.mankato.msus.edu>
  5. From: vxc15931@vax1.mankato.msus.edu
  6. Date: 27 Dec 92 16:51:17 -0600
  7. Organization: Mankato State University
  8. Lines: 31
  9.  
  10. Can anyone of you provide me with references to the use of ultrasonics in
  11. cleaning the surface of a silicon wafer?  I am currently working on a design
  12. project involving the use of a megasonic system (currently employed by FSI) in
  13. removing surface particulates in the order of 0.15 microns and larger.
  14.  
  15. The system I am trying to design uses a Multiple Array Liquid Coupled
  16. Transducer to generate the agitation necessary for particulate removal.  Right
  17. now, I am seeking out the equations which I need for my MathCAD simulation.
  18. Unfortunately, my university library is not exactly well-stocked with the
  19. proper literature.
  20.  
  21. So if you could recommended any literature in the area of ultrasonics being
  22. used for surface decontamination (?), I would appreciate it very much.
  23.  
  24. Let me know if I haven't made my needs clear enough.
  25.  
  26. Thanks in advance!
  27.  
  28. ==================
  29.  
  30. Jose' R.C. Cruz
  31. Graduate Assistant
  32. Department of Physics, Engineering and Technology
  33. Mankato State University
  34. Mankato, MN 56001
  35.  
  36. ==================
  37.  
  38. You may either post your responses in this newsgroup or E-Mail it to me.  The
  39. latter is preferable.
  40.   
  41.