Z┴PIS UÄITN╔HO VZORU
Patentovß ochrana nemusφ b²t v₧dy jedinou vhodnou formou ochrany jedineΦn²ch technick²ch °eÜenφ. Pro p°edm∞ty s ni₧Üφ vynßlezeckou ·rovnφ, pop°. menÜφho ekonomickΘho v²znamu, je mo₧nΘ zvolit si pro sv∙j vynßlez jednoduÜÜφ, rychlejÜφ a mΘn∞ nßkladnou ochranu tzv. u₧itn²m vzorem. U₧itn²m vzorem jsou novß, pr∙myslov∞ vyu₧itelnß technickß °eÜenφ, kterß p°esahujφ rßmec pouhΘ odbornΘ dovednosti. Z uvedenΘho je z°ejmΘ, ₧e podmφnky ochrany u₧itnΘho vzoru se od ochrany patentem liÜφ jen po₧adavkem na ·rove≥ °eÜenφ. Z mo₧nosti ochrany u₧itn²m vzorem jsou vÜak vylouΦeny vÜechny zp∙soby v²roby nebo pracovnφ Φinnosti a biologickΘ reproduktivnφ materißly. Pokud jde o prßvo na ochranu u₧itn²m vzorem a nßle₧itosti p°ihlßÜky u₧itnΘho vzoru, platφ obdobnΘ zßsady jako v p°φpad∞ patentovΘ p°ihlßÜky. Zßkladnφ rozdφl vÜak spoΦφvß v °φzenφ o p°ihlßÜkßch u₧itn²ch vzor∙. ╪φzenφ je zde zalo₧eno na tzv. registraΦnφm principu, kdy ┌°ad zkoumß jen spln∞nφ zßkladnφch podmφnek pro ochranu a zapφÜe u₧itn² vzor do rejst°φku, ani₧ by zkoumal, zda p°edm∞t p°ihlßÜky je z hlediska novosti a tv∙rΦφ ·rovn∞ zp∙sobil² k ochran∞. Na rozdφl od patentovΘ ochrany tak k zßpisu u₧itnΘho vzoru m∙₧e dojφt velmi rychle, zpravidla za t°i a₧ Φty°i m∞sφce po podßnφ p°ihlßÜky. Za urΦit²ch podmφnek je mo₧nΘ dokonce z p∙vodnφ p°ihlßÜky vynßlezu odboΦit na p°ihlßÜku u₧itnΘho vzoru p°i zachovßnφ p∙vodnφ priority. Doba ochrany u₧itnΘho vzoru vÜak trvß toliko Φty°i roky, ale na ₧ßdost jeho majitele m∙₧e b²t prodlou₧ena dvakrßt o t°i roky. Maximßlnφ doba platnosti u₧itnΘho vzoru je tedy 10 let. Ve srovnßnφ s patentem je tedy z°ejmΘ, ₧e se tato ochrana nehodφ v t∞ch p°φpadech, kdy k vyu₧itφ chrßn∞nΘho p°edm∞tu dojde a₧ v delÜφm ΦasovΘm odstupu. Naopak je ideßlnφ pro p°edm∞ty s kratÜφ ₧ivotnostφ, proto₧e ·Φinky zßpisu u₧itnΘho vzoru jsou stejnΘ jako ·Φinky patentu. AvÜak tφm, ₧e u₧itn² vzor se zapisuje do rejst°φku bez pr∙zkumu novosti a ·rovn∞ °eÜenφ, je takΘ jeho monopol oproti patentu k°ehk² a postavenφ jeho majitele mΘn∞ jistΘ. Pravdou ovÜem je, ₧e poplatky, za u₧itn² vzor jsou °ßdov∞ mnohem ni₧Üφ.